半導體內部是由長達數萬米的金屬配線而組成，而濺射靶材則是用于制作這些配線的關鍵消耗材料。如蘋果A10處理器，指甲蓋大小的芯片上密布著上萬米金屬導線，這些密布的電路必須要對高純度的金屬靶材通過濺射的方式形成。濺射靶材是半導體晶圓制造環節核心的高難度材料，芯片對濺射靶材的要求非常之高，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個9，4N表示有4個9即99.99%，哪個純度更高，一看就明白了。在提純領域，小數點后面每多一個9，難度是呈指數級別的增加，技術門檻也就更高。隨著芯片的使用范圍越來越廣泛，芯片市場需求數量增長，對于鋁、鈦、鉭、銅這四種業界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會有增長。且目前從技術上及經濟規模上還未找到能夠替代這四種薄膜金屬材料的其他方案，所以這四種材料目前看不到被替代的風險。

尤特新材料的高純旋轉銅管靶和旋轉鋁管靶成功在國內數家TFT G8.5 線上量產使用，成功實現國產化。尤特新材料生產靶材產品主要應用在：建筑/汽車玻璃工業、薄膜太陽能工業、平面顯示工業、裝飾/功能鍍膜工業、表面修復工業。

主要產品有：旋轉銀靶、旋轉鋁靶、旋轉鋅鋁靶、旋轉鋅錫靶、旋轉鈮靶、旋轉銅靶、旋轉鈦鋁管靶、旋轉硅鋁靶、旋轉氧化鈮靶、旋轉氧化鈦靶、旋轉硅靶、旋轉鉻靶、旋轉鋯靶、平面銀靶、平面鉻靶、平面硅靶、平面鈦靶、平面鈦鋁靶、平面鎳鉻靶、平面鉬鈮靶、平面鋁合金靶等。并為客戶提供量身定做及靶材綁定的服務。

目前全球高端靶材市場主要分布于韓國、寶島、中國、日本，主要供應商在日本，韓國。中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸，而且處于快速增長之中未。來靶材產品會廣泛應用于計算機硬盤、半導體、TFT平面顯示、手機、低輻射玻璃等行業，我們立志為靶材的國產化作出了重要貢獻，任重而道遠。

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