? ? ? 合金靶材: 鉻鋁合金靶,金鈀合金,金錫合金,金鍺鎳合金,鋁釩合金靶,鋁鉻釔合金靶,鋁硅合金靶,鋁硅銅合金靶,鋁鐵合金靶,鎂鉻合金靶,鉬鎳合金靶,鎳鉑合金靶,鎳釩合金靶,鎳鉻合金靶,鎳鉻鋁釔合金靶,鎳硅合金靶,鎳碳合金靶,鎳鐵合金靶,坡莫合金靶,鎳銅合金靶,鈦硅合金靶,鈦鋁硅合金靶,鈦硅碳合金靶,鈦鋁合金靶,鈦鎳合金靶,鈦鎢合金靶,鐵碲合金靶,鐵鉻鈷合金靶,鐵鈷合金靶,鐵鎳合金靶,鐵鈷鎳
2024-08-26 面議/套? ? ? UVTM擁有廣東省“科技小巨人”企業稱號、“廣東省省鎢鉬深加工工程實驗室”、“深圳市鎢鉬靶材工程技術研究中心”、“深圳市鎢鉬深加工工程研究中心”、“深圳市鎢鉬深加工研發中心”、“深圳市企業技術中心”、“廣東省鎢鉬靶材及硬質合金新材料產業技術創新戰略聯盟”盟主稱號,與國內多所高校、研究院所建立了良好的產學研合作關系,為公司技術研發提供良好的服務平臺,提高企業科研創新活力。 ? ? ? 目
2024-08-26 面議/套? ? ? 鈦硅合金材料是一種高熔點的金屬間化合物,具有低的密度、良好的舒緩反應性,因而受到廣泛的重視。TiSi2是一種重要的硅化物,具有較好的高溫穩定性、較高的高溫強度和良好的舒緩反應能力,有希望成為1200℃以上使用的結構材料。由于其電阻和熱阻均較低,TiSi2也有希望應用于電氣連接和擴散阻擋層,目前已被作為歐姆接觸和金屬互聯材料廣泛用于超大規模集成電路制造技術中。形成鈦硅涂層,用磁控濺射法,
2024-08-26 面議/套? ? ? 鈦硅合金(TiSi)具有低電阻率、較高的熱穩定性以及化學穩定性等諸多不錯的性能。傳統的鈦硅合金的制備是采用純金屬鈦和硅為原料制備的,由于金屬鈦制備成本高,工藝流程長,導致制備的鈦硅合金成本較高。工業用硅粉、碳粉和碳化鈦為原料,利用放電等離子燒結技術原位反應制備了TiSi2/SiC兩相復合材料。弱放熱反應TiSi2燃燒合成的粉末冶金技術,用自蔓延高溫燃燒法合成了TiSi2單相化合物,其合
2024-08-26 面議/套半導體芯片的需求市場比較龐大,集中在手機、PC、、AI、物聯網、電子汽車、5G等領域,龐大的市場還是手機、PC、可穿戴設備等電子消費產品。大部分國家電子產品消費市場都不景氣,且短期內很難迎來報復性增長。中國的集成電子領域是一個穩步增長的發展階段,中芯國際等優勢企業像雨后春筍般涌現出來。微電子靶材這塊,該屬于第二梯隊,梯隊仍然是日本的公司和美國的霍尼爾等公司。在過去十幾年里,中國的微電子靶材從零開始
2024-08-26 面議/套真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可
2024-08-23 面議/套目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等,HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。靶材也逐步向國產化方向努力;設備進口替代降低投資成本。機構預測,到2023年,國內光伏電池用濺射靶材市場將達60億元。磁記錄靶材市場可達107億元,顯示面板用靶材市場規模有望達到246億元。濺射靶材種類繁多,就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以
2024-08-23 面議/套芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求較高,通常要達到99.9995%以上,而平板顯示器、太陽能電池分別要求達到99.999%、99.995%以上,若濺射靶材的雜質含量過高,形成的薄膜就無法達到使用所要求的電性能,將嚴重影響薄膜的性能。目前,全球的靶材制造行業在高純度的靶材市場,呈現寡頭壟斷格局,主要由幾家美日大企業把持著,如日本的三井礦業、日礦金屬、日本東曹、住友化學、日本愛發科,以及美國霍尼韋爾、
2024-08-23 面議/條? ? 太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低,99.995%(4N5)以上。高純貨品靶材被譽為半導體芯片材料的強者,半導體產業對濺射靶材和濺射薄膜的品質要求非常高,隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來,相應地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發展,同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高純貨品靶材在電子信息產業中的應用廣泛,因貨品有良好的化學穩定性,高電導率、熱導率,以及特有的電學、磁學、光學等
2024-08-23 面議/套