旋轉鋅鋁靶 Rotatable ZnAl target,應用:主要用于制作ZnO.Al2O3 膜,廣泛用于TCO玻璃,熱反射玻璃,Low-E玻璃膜。氧化鋅是一種透明導電膜材料。以ZnO粉末和Al_2O_3粉末為主要原料,以常壓、空氣氣氛燒結為手段制備透明導電膜用ZnO陶瓷靶材。研究結果表明:粉末成型壓力為3MP時,靶材電學性能佳;當Al:Zn原子比為4.100時,ZnO的電阻率低,達4.1×10~
2024-08-30 面議/公斤目前,國內外鎳鉻合金靶材在純度方面的差距顯著,國內所生產的鎳鉻合金靶材能達到4N級,而日本相關靶材廠家制備的鎳鉻靶可以達到5N以上。超高純、高利用率與良好的濺射沉積均勻性是高質量靶材所追求的優良特性,因此在靶材基本制備方法的基礎上,需要不斷優化工藝提高靶材質量,具體地,從高純化、提高磁透率(PTF)以及組織結構控制等方面提高靶材質量,將成為鎳鉻合金靶材制備工藝的發展趨勢。 靶材的組織結構控制也與濺
2024-08-30 面議/千克? ? 半導體是對靶材組成、結構和性能要求級高的領域。中國半導體靶材市場增長迅速。尤特新材主要產品為各種高純濺射靶材,包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等,這些產品主要應用于超大規模集成電路芯片、液晶面板、薄膜太陽能電池制造的物理氣相沉積(PVD)工藝,用于制備電子薄膜材料。目前,公司產品主要應用于半導體、平板顯示器及太陽能電池等領域。在超大規模集成電路用高純金屬靶材領域,公司成功打破美國、日本跨國公司
2024-08-29 面議/套? ? ? 國外對高純金屬材料的開發研究較早,日本、美國、英國和俄羅斯等國家意志以來都十分重視高純金屬材料的研制、生產和應用。其生產的高純金屬材料品種齊全、質量好、產量大,產品純度較高可達6N以上。尤特新材料,多年來致力于對貴重金屬材料的研發和生產,為客戶提供一站式的解決方案,公司擁有成熟的貨品靶材的循環回收利用的技術及設備,有效為客戶提高材料利用效率和節約資源。靶材的利用率達到70%以上,并成為
2024-08-29 面議/套? ? 尤特新材的薄膜材料,可分為濺射靶材、蒸鍍材料與鍍膜配件三大產品線,主要應用于光學、光通信、平板顯示、觸控面板、集成電路、LED芯片、Low-E玻璃、裝飾鍍膜、工具鍍膜、光伏、光磁存儲等領域。UVTM扎根于中國本土市場,同時積極拓展海外市場,產品遠銷日本、韓國、新加坡、美國、德國等國家,并與大部分國家知名光電技術企業建立了長期的戰略合作伙伴關系,是目前國內薄膜材料行業設備先進、技術水平高、產
2024-08-29 面議/套? ? ? 綁定式磁控濺射旋轉靶材,包括背管(I)和固定套結在背管(I)外壁的靶管(3),其特征在于:所述固定套結在背管(I)外壁的靶管(3)為至少一個,所述背管(I)外壁設有開口槽(2),靶管(3)通過填充在開口槽(2)內的無銦釬焊材料旋轉加熱焊接固定在背管(I)夕卜壁。2.根據權利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉靶材,其特征在于:所述開口槽(2)為半圓形螺旋槽。3.根據權利要求2所述綁定式磁控濺射
2024-08-29 面議/套? ? ? 中國集成電路材料現狀如何?靶材是薄膜制備的關鍵原料之一,半導體在靶材應用中約占10%。2016年靶材市場增速達到20%,2017年-2019年仍將保持復合增速13%,到2018年大部分國家靶材市場空間達到983億元,超越大部分國家金屬鈷和碳酸鋰合計941億元的市場,未來潛力巨大。高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應力小和可靠性高等優點,其靶材材料廣泛應用于背面金屬化系統、汽車
2024-08-29 面議/套芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求較高,通常要達到99.9995%以上,而平板顯示器、太陽能電池分別要求達到99.999%、99.995%以上即可。除了純度之外,芯片對濺射靶材內部微觀結構等也設定了極其苛刻的標準,需要掌握生產過程中的關鍵技術,并經過長期實踐才能制成符合工藝要求的產品。半導體制造流程當中,濺射靶材無疑是重中之重的原材料,其質量和純度對半導體產業鏈的后續生產質量起著關鍵性作用。非常高純
2024-08-29 面議/套半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,制造材料包括硅片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學品、電子氣體、CMP拋光材料、以及靶材等;(39%)、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在國內占據了大部分中等和要求不高的靶材市場份額。國內靶材公司的發展趨勢如何?目前全球高端靶材市場主要分布于韓國、寶島、中國、日本,主要供應商在日本,韓國。 中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸,但
2024-08-29 面議/千克